Siliciumdioxide slurry Ultrasone lange mondstuk diep BCT spuit

Siliciumdioxide slurry Ultrasone lange mondstuk diep BCT spuit

Beschrijving:

Er zijn verschillende spuitstukken voor diep BCT sproeien van silica-schimmel ultrasoon lange spuitstuk, die kan worden aangepast aan de diameter en lengte van BCT of spuitvat.Een gebruikelijke toepassing is het sproeien van een silicacoating om de coagulatie te versnellen, en de silica-schimmel wordt door een ultrasone spuitstuk op de buiswand gespoten om een uniforme dunne film van silica-deeltjes te vormen.

Silicondioxide slurry ultrasoon lange spuitstuk diep BCT sproeien kan alle siliciumdioxide agglomeraten ontbinden door de hoge frequentie trilling van ultrasoongolven op de spuitstuk,de coating op de buiswand gelijkmatig kan worden verdeeldTegelijkertijd kan, volgens de vereisten van het coatinggebied, lokaal sproeien worden uitgevoerd om de coatingpositie nauwkeuriger te controleren.

Parameters:

Algemene configuratie

1Viscositeit en vaste stoffen: de viscositeit bedraagt gewoonlijk ≤ 30 cps en de suspensie vereist een vaste stoffengehalte van maximaal 20-30%.
2- Vloeistofvoorzieningstoestellen: precisie-inspuitpomp + biologische bemonsteringsmachine, vloeistofvoorziening met een nauwkeurigheid van 0,1 uL/min
3.Druine filmdikte: 20nm-100um (afhankelijk van het substraat van de oplossing)
4Inlaatspanning: 220 V ± 10%, 50-60 Hz
5- Solution conversion rate: ≥ 95%, utilization rate is meerdere malen hoger dan bij traditionele twee fluid pressure nozzles
6De gemiddelde waarde is 15-45 μm, vooral afhankelijk van de frequentie van de spuitstuk.
7. Frequentie van het spuitstuk: kan worden uitgerust met meerdere spuitstuksystemen met een frequentie van 30-200KHz

Siliciumdioxide slurry Ultrasone lange mondstuk diep BCT spuit